[发明专利]化学气相沉积反应炉中的排气歧管

摘要

本发明提供一种用于从喷涂系统(尤其是化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)反应炉)中抽取工艺气体的装置，其包括具有流道的排气歧管(1)，其中所述流道包括吸气口(2)、在流动方向(S)上的邻接抽气段(3)、以及在流动方向(S)上布置在抽气室(3)的下游并通入吸气管线(4、4'、4")的真空泵口(20、20'，20")的集气段(5)，其中吸气口(2)的沿长边方向(L)延伸的长度显著大于沿窄边方向(W)延伸的宽度，并且其中抽气室(3)和集气室(5)由沿长边方向(L)延伸的长侧壁(6、8)和沿窄边方向(W)延伸的窄侧壁(7)限定，该限定方式使得因吸气管线(4、4'、4")中产生的负压而在流道中形成气流。在抽气段(3)和集气段(5)之间的至少一个中间空间(9)中设有阻流结构，该阻流结构在位于两个边缘区域(R)之间的中央区域(Z)中对气流施加的流动阻力比在边缘区域(R)中施加的流动阻力大。

主权项

1.一种用于从喷涂系统尤其是化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)反应炉中抽取工艺气体的装置，包括具有流道的排气歧管(1)，其中所述流道包括吸气口(2)、在流动方向(S)上的邻接抽气段(3)、以及在流动方向(S)上布置在抽气室(3)的下游并通入吸气管线(4、4'、4")的真空泵口(20、20'、20")的集气段(5)，其中吸气口(2)的沿长边方向(L)延伸的长度显著大于沿窄边方向(W)延伸的宽度，并且其中抽气室(3)和集气室(5)由沿长边方向(L)延伸的长侧壁(6、8)和沿窄边方向(W)延伸的窄侧壁(7)限定，该限定方式使得因吸气管线(4、4'、4")中产生的负压而在流道中形成气流，其特征在于，在抽气段(3)和集气段(5)之间的至少一个中间空间(9)中布置有阻流结构，该阻流结构在位于两个边缘区域(R)之间的中间区域(Z)中对气流施加的流动阻力比在边缘区域(R)中施加的流动阻力大。