[发明专利]与薄膜层分析有关的设备及其制造方法有效
| 申请号： | 201780025310.0 | 申请日： | 2017-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN109416247B | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | R·普鲁宁;高峰 | 申请（专利权）人： | 芬兰国家技术研究中心股份公司 |
| 主分类号： | G01B21/00 | 分类号： | G01B21/00;C23C14/00;C23C16/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 蔡文清;郭辉 |
| 地址： | 芬兰埃*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 与薄膜层分析有关的设备包括在其间具有腔体(104)的两个层结构(100,102)，以及穿过层结构中的一个(102)达到腔体(104)的开口(110)，所述腔体(104)构造为通过开口(110)接收用于在腔体(104)内形成薄膜层(900)的材料。两个层结构(100,102)中的至少一个包括用于与薄膜层(900)有关的分析的至少一个位置标记(108)。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 分析 有关 设备 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一个与薄膜层分析有关的设备，其中，所述设备包括在其间具有腔体(104)的两个层结构(100,102)，以及穿过层结构中的一个(102)达到腔体(104)的至少一个开口(110)，所述腔体(104)构造为通过至少一个开口(110)接收用于在腔体(104)内形成薄膜层(900)的材料，其特征在于，两个层结构(100,102)中的至少一个包括用于与薄膜层(900)有关的分析的至少一个位置标记(108)。
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