[发明专利]用于防止空间ALD处理腔室中的背侧沉积的装置有效
申请号: | 201780024476.0 | 申请日: | 2017-04-24 |
公开(公告)号: | CN109072433B | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | J·约德伏斯基;A·S·波利亚克 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/44 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 汪骏飞;侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述了一种包含具有支撑柱的基座的基座组件。所述基座具有主体,所述主体具有顶表面与底表面。所述顶表面具有多个凹部。所述支撑柱连接至所述基座的底表面,以旋转所述基座组件。所述支撑柱包括支撑柱真空气室,所述支撑柱真空气室与所述基座的主体中的基座真空气室流体连通。所述支撑柱还包括净化气体管线,所述净化气体管线通过支撑柱延伸至所述基座的主体中的净化气体气室。 | ||
搜索关键词: | 用于 防止 空间 ald 处理 中的 沉积 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基座组件,包含:基座,具有主体,所述主体具有顶表面与底表面,所述顶表面中具有多个凹部;以及支撑柱,连接至所述基座的所述底表面,以旋转所述基座组件,所述支撑柱包括:支撑柱真空气室,所述支撑柱真空气室与所述基座的所述主体中的基座真空气室流体连通,以及净化气体管线,所述净化气体管线通过所述支撑柱延伸至所述基座的所述主体中的净化气体气室。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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