[发明专利]滤波器阵列重构光谱测定有效
| 申请号： | 201780024303.9 | 申请日： | 2017-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN109073357B | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 刘照伟;Q·马;E·黄 | 申请（专利权）人： | 加利福尼亚大学董事会 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02;G01J3/00;G01J3/28;G01J3/36;G01J3/45 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 韩宏;夏青 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光谱测定系统可以包括具有第一标准具和第二标准具的标准具阵列。所述第一标准具可以被配置为对光进行处理，从而至少生成第一透射图案。所述第一透射图案可以至少具有对应于所述光的原始光谱内的第一波长的第一透射峰。所述第二标准具可以被配置为对光进行处理，从而至少生成第二透射图案。所述第二透射图案可以至少具有对应于所述光的原始光谱内的第二波长的第二透射峰。所述第一标准具可以具有不同于所述第二标准具的厚度，从而使所述第一透射图案具有至少一个处于不同于所述第二透射图案的波长上的透射峰。所述第一透射图案和所述第二透射图案可以实现对所述光的原始光谱的重构。 | ||
| 搜索关键词： | 滤波器 阵列 光谱 测定 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：具有第一标准具和第二标准具的标准具阵列，所述第一标准具被配置为对光进行处理，从而至少生成第一透射图案，所述第一透射图案至少具有对应于所述光的原始光谱内的第一波长的第一透射峰，所述第二标准具被配置为对所述光进行处理，从而至少生成第二透射图案，所述第二透射图案至少具有对应于所述光的所述原始光谱内的第二波长的第二透射峰，所述第一标准具具有不同于所述第二标准具的厚度，从而使所述第一透射图案具有至少一个处于与所述第二透射图案不同的波长上的透射峰，并且所述第一透射图案和所述第二透射图案使得能够实现光谱学的对所述光的所述原始光谱的重构。
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