[发明专利]滤波器阵列重构光谱测定

权利要求书

1.一种系统，包括：

具有第一标准具和第二标准具的标准具阵列，所述第一标准具具有第一对至少部分反射的表面并被配置为对光进行处理，从而至少生成第一透射图案，所述第一透射图案至少具有对应于所述光的原始光谱内的第一波长的第一透射峰，所述第二标准具具有第二对至少部分反射的表面，所述第二对与所述第一对相独立，所述第二标准具被配置为对所述光进行处理，从而至少生成第二透射图案，所述第二透射图案至少具有对应于所述光的所述原始光谱内的第二波长的第二透射峰，所述第一标准具具有不同于所述第二标准具的厚度，从而使所述第一透射图案具有至少一个处于与所述第二透射图案不同的波长上的透射峰，并且所述第一透射图案和所述第二透射图案使得能够实现光谱学的对所述光的所述原始光谱的重构。

2.根据权利要求1所述的系统，进一步包括：

至少一个数据处理器；以及

至少一个包括程序代码的存储器，所述程序代码在被所述至少一个数据处理器执行时提供包括下述操作在内的操作：

至少基于所述第一透射图案和所述第二透射图案来重构所述光的所述原始光谱。

3.根据权利要求2所述的系统，其中，对所述光的所述原始光谱的重构包括应用一种或多种信号重构技术。

4.根据权利要求3所述的系统，其中，所述一种或多种信号重构技术包括压缩感测。

5.根据权利要求3-4中的任何一项所述的系统，其中，应用所述一种或多种信号重构技术来确定所述光的最佳地拟合所述第一透射图案和所述第二透射图案的近似光谱。

6.根据权利要求2-4中的任何一项所述的系统，进一步包括：

确定校正因子，所述校正因子是至少基于通过所述标准具阵列的所述光的所述原始光谱与所述光的重构光谱之间的差异而确定的。

7.根据权利要求6所述的系统，进一步包括：

对接下来基于通过所述第一标准具和/或第二标准具生成的透射图案重构的光谱应用所述校正因子。

8.根据权利要求2-4中的任何一项所述的系统，进一步包括：

至少基于所述光的重构光谱，对发射、反射和/或透射所述光的对象进行分析。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，对所述对象的分析包括至少基于所述光的重构光谱来确定所述对象的分子组成。

10.根据权利要求8所述的系统，其中，对所述对象的分析包括至少基于所述光的重构光谱来确定所述对象的温度。

11.根据权利要求8所述的系统，其中，对所述对象的分析包括将所述光的重构光谱与多个已知光谱进行比较。

12.根据权利要求1-4中的任何一项所述的系统，其中，所述第一对至少部分反射的表面隔开第一距离，并且其中，所述第二对至少部分反射的表面隔开第二距离。

13.根据权利要求12所述的系统，其中，所述第一对至少部分反射的表面和/或所述第二对至少部分反射的表面是由金属膜形成的。

14.根据权利要求13所述的系统，其中，所述金属膜包括银(Ag)、金(Au)和/或铝(Al)。

15.根据权利要求12所述的系统，其中，所述第一对至少部分反射的表面和/或所述第二对至少部分反射的表面通过光学透明介质隔开。

16.根据权利要求15所述的系统，其中，所述光学透明介质包括二氧化硅(SiO₂)。