[发明专利]滤波器阵列重构光谱测定

说明书

一种光谱测定系统可以包括具有第一标准具和第二标准具的标准具阵列。所述第一标准具可以被配置为对光进行处理，从而至少生成第一透射图案。所述第一透射图案可以至少具有对应于所述光的原始光谱内的第一波长的第一透射峰。所述第二标准具可以被配置为对光进行处理，从而至少生成第二透射图案。所述第二透射图案可以至少具有对应于所述光的原始光谱内的第二波长的第二透射峰。所述第一标准具可以具有不同于所述第二标准具的厚度，从而使所述第一透射图案具有至少一个处于不同于所述第二透射图案的波长上的透射峰。所述第一透射图案和所述第二透射图案可以实现对所述光的原始光谱的重构。

相关申请

本申请要求2016年2月26日提交的名称为“ETALON ARRAY RECONSTRUCTIVESPECTROMETRY(标准具阵列重构光谱测定)”的美国临时专利申请No.62/300,601的优先权，其公开内容全文以引用方式并入本文中。

技术领域

本文所公开的主题总体上涉及光谱测定，更具体而言，涉及重构光谱测定。

背景技术

光谱仪可用于测量包括，例如，电离辐射(例如，伽马辐射、硬x射线、软x射线)、光波(例如，近紫外、近红外、中红外、远红外)和/或微波和无线电波在内的电磁频光谱的一个或多个部分内的光的特性。常规的基于光栅的光谱仪通常依赖于色散光学设备(例如，棱镜和/或光栅)将输入光分成由所述光的分量波长构成的光谱。接下来，衍射光可能被传播(例如，通过一个或多个反射镜)到被配置为测量各分量波长的光功率或强度(例如，单位面积能量)的传感器(例如，光电二极管和/或光电晶体管)上。

发明内容

提供了用于滤波器阵列光谱测定的系统和方法。所述系统可以包括具有第一标准具和第二标准具的标准具阵列。所述第一标准具可以被配置为对光进行处理，从而至少生成第一透射图案。所述第一透射图案可以至少具有对应于所述光的原始光谱内的第一波长的第一透射峰。所述第二标准具可以被配置为对光进行处理，从而至少生成第二透射图案。所述第二透射图案可以至少具有对应于所述光的原始光谱内的第二波长的第二透射峰。所述第一标准具可以具有不同于所述第二标准具的厚度，从而使所述第一透射图案具有至少一个处于不同于所述第二透射图案的波长上的透射峰。所述第一透射图案和所述第二透射图案可以实现对所述光的原始光谱的重构。

在一些变型中，可以任选按照任何可行的组合包含包括下述特征在内的文中公开的一项或多项特征。所述系统可以进一步包括至少一个处理器和至少一个存储器。所述至少一个存储器可以包括程序代码，所述程序代码在被所述至少一个处理器执行时提供操作。所述操作可以包括至少基于所述第一透射图案和所述第二透射图案重构所述光的原始光谱。对所述光的原始光谱的重构可包括应用一种或多种信号重构技术。所述一种或多种信号重构技术可以包括压缩感测。可以应用所述一种或多种信号重构技术以确定所述光的最佳地拟合所述第一透射图案和所述第二透射图案的近似光谱。

在一些变型中，可以确定校正因子。可以至少基于通过所述标准具阵列的光的原始光谱与所述光的重构光谱之间的差异来确定所述校正因子。可以对光谱应用所述校正因子，所述光谱接下来基于通过所述第一标准具和/或第二标准具生成的透射图案而被重构。

在一些变型中，可以至少基于所述光的重构光谱分析发射、反射和/或透射所述光的对象(object)。对所述对象的分析可以包括至少基于所述光的重构光谱确定所述对象的分子组成。对所述对象的分析可以包括至少基于所述光的重构光谱来确定所述对象的温度。对所述对象的分析可以包括将所述光的重构光谱与多个已知光谱进行比较。