[发明专利]振动隔离器、光刻设备和器件制造方法在审
| 申请号： | 201780014623.6 | 申请日： | 2017-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN108713165A | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;C·A·L·德胡恩;F·M·雅各布斯;P·卡甘;J·P·斯塔雷维尔德;M·W·J·E·维杰克曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F16F15/02;F16F15/023;F16F15/027;F16F9/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种振动隔离器(VI)，其包括：基座(10)；耦合到振动敏感物体的耦合元件(20)；去耦质量(30)；布置在基座(10)与去耦质量(30)之间的第一振动隔离器部分(31)；以及布置在去耦质量(30)与耦合元件(20)之间的第二振动隔离器部分(40)，并且其中第一振动隔离器部分和第二振动隔离器部分中的至少一个包括气动隔离器。 | ||
| 搜索关键词： | 振动隔离器 去耦 耦合元件 光刻设备 敏感物体 器件制造 气动隔离 耦合到 | ||
【主权项】：
1.一种振动隔离器，包括：基座；耦合元件，被耦合到振动敏感物体；去耦质量；第一振动隔离器部分，被布置在所述基座与所述去耦质量之间；以及第二振动隔离器部分，被布置在所述去耦质量与所述耦合元件之间，并且其中所述第一振动隔离器部分和所述第二振动隔离器部分中的至少一个振动隔离器部分包括气动隔离器。
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