[发明专利]振动隔离器、光刻设备和器件制造方法在审
| 申请号： | 201780014623.6 | 申请日： | 2017-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN108713165A | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;C·A·L·德胡恩;F·M·雅各布斯;P·卡甘;J·P·斯塔雷维尔德;M·W·J·E·维杰克曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F16F15/02;F16F15/023;F16F15/027;F16F9/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 振动隔离器 去耦 耦合元件 光刻设备 敏感物体 器件制造 气动隔离 耦合到 | ||
1.一种振动隔离器，包括：
基座；
耦合元件，被耦合到振动敏感物体；
去耦质量；
第一振动隔离器部分，被布置在所述基座与所述去耦质量之间；以及
第二振动隔离器部分，被布置在所述去耦质量与所述耦合元件之间，
并且其中所述第一振动隔离器部分和所述第二振动隔离器部分中的至少一个振动隔离器部分包括气动隔离器。
2.根据权利要求1所述的振动隔离器，其中所述去耦质量仅由所述第一振动隔离器部分和所述第二振动隔离器部分悬置。
3.根据权利要求1所述的振动隔离器，其中所述第一振动隔离器部分和所述第二振动隔离器部分两者包括气动隔离器。
4.根据权利要求3所述的振动隔离器，其中所述第一振动隔离器部分的气动隔离器与所述第二振动隔离器部分的气动隔离器之间的串扰被最小化，优选地被阻止。
5.根据权利要求1所述的振动隔离器，其中所述第一振动隔离器部分的静态刚度基本上等于所述第二振动隔离器部分的静态刚度。
6.根据权利要求1所述的振动隔离器，其中所述气动隔离器是密封的气动隔离器。
7.根据权利要求1所述的振动隔离器，其中所述基座或所述耦合元件包括腔室，所述去耦质量可移位地布置在所述腔室中。
8.根据权利要求1所述的振动隔离器，其中所述去耦质量是所述气动隔离器的活塞部分或圆筒部分。
9.一种光刻设备，包括：
振动敏感物体；
振动隔离器，支撑所述振动敏感物体，并且包括：
基座；
耦合元件，被耦合到所述振动敏感物体；
去耦质量；
第一振动隔离器部分，被布置在所述基座与所述去耦质量之间；以及
第二振动隔离器部分，被布置在所述去耦质量与所述耦合元件之间，
并且其中所述第一振动隔离器部分和所述第二振动隔离器部分中的至少一个振动隔离器部分包括气动隔离器。
10.根据权利要求9所述的光刻设备，其中所述振动敏感物体是以下之一：
照射系统，被配置为调节辐射束；
投影系统，被配置为将图案化辐射束投射到衬底的目标部分上；
台组件，包括被构造为保持所述衬底的衬底台；或者
基础框架，支撑所述照射系统、所述投影系统和/或所述台组件。
11.根据权利要求9所述的光刻设备，其中所述第一振动隔离器部分和所述第二振动隔离器部分两者包括气动隔离器。
12.根据权利要求11所述的光刻设备，其中所述第一振动隔离器部分的气动隔离器与所述第二振动隔离器部分的气动隔离器之间的串扰被最小化，优选地被阻止。
13.根据权利要求9所述的光刻设备，其中所述第一振动隔离器部分的静态刚度基本上等于所述第二振动隔离器部分的静态刚度。
14.根据权利要求9所述的光刻设备，其中所述气动隔离器是密封的气动隔离器。
15.一种器件制造方法，包括使用根据权利要求9所述的光刻设备来将图案化辐射束投射到衬底上。
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