[发明专利]用于去除布置在腔室中表面上的金属沉积物的方法有效
| 申请号： | 201780007347.0 | 申请日： | 2017-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN108884560B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 法比安·皮亚拉;朱利安·维蒂耶洛 | 申请（专利权）人： | 库伯斯股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;B08B7/00;C07C45/00;C23C16/44;C23G5/00;H01J37/32 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 金海霞;杨青 |
| 地址： | 法国蒙博诺*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于去除布置在腔室(1)中表面(5)上的金属沉积物(2)的方法，所述方法包括反复进行包括以下阶段的序列：a)注入适合于氧化所述金属沉积物(2)的化学物质的第一阶段；和b)注入适合于使氧化的金属沉积物挥发的化学物质的第二阶段，所述第二阶段b)在所述第一阶段a)之后进行。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 布置 中表 面上 金属 沉积物 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于去除布置在腔室(1)中表面(5)上的金属沉积物(2)的方法，所述方法包括反复进行包括以下阶段的序列：a)注入适合于氧化所述金属沉积物(2)的化学物质的第一阶段；b)注入适合于使氧化的金属沉积物挥发的化学物质的第二阶段，所述第二阶段b)在第一阶段a)之后进行；并且其中，在阶段b)中，相对于在阶段a)中氧化的金属沉积物的量，所述化学物质以亚化学计量的量注入，使得所述氧化的金属沉积物层不会完全挥发。
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