[实用新型]一种可激光刻写的光学微结构防伪膜有效
| 申请号： | 201721884658.9 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN207676563U | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 姜振飞;张春炜;桑建新;张志毅;林之聪;金忠 | 申请（专利权）人： | 上海冠众光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G09F3/02 | 分类号： | G09F3/02 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 | 代理人： | 郭桂峰 |
| 地址： | 201400 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本实用新型公开了一种可激光刻写的光学微结构防伪膜，包括：基材层，光学微结构载体层，镀膜层；所述基材的厚度设置为12‑100um，所述光学微结构载体层的厚度设置为1‑3um，镀膜层 |
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| 搜索关键词： | 光学微结构 激光刻写 防伪膜 载体层 本实用新型 厚度设置 镀膜层 保密性 光栅 防伪特征 功能实现 光栅结构 耐磨保护 频率光栅 证卡信息 基材层 基材 刻录 承载 保留 安全 | ||
【主权项】：
1.一种可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，包括：1基材层，光学微结构载体层，镀膜层；所述基材的厚度设置为12‑100um，所述光学微结构载体层的厚度设置为1‑3um，镀膜层30‑500A；所述光学微结构载体层根据承载的信息不同，设置成对应的刻录光栅结构频率光栅槽，以及光栅角度。
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