[实用新型]一种可激光刻写的光学微结构防伪膜有效
| 申请号： | 201721884658.9 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN207676563U | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 姜振飞;张春炜;桑建新;张志毅;林之聪;金忠 | 申请（专利权）人： | 上海冠众光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G09F3/02 | 分类号： | G09F3/02 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 | 代理人： | 郭桂峰 |
| 地址： | 201400 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学微结构 激光刻写 防伪膜 载体层 本实用新型 厚度设置 镀膜层 保密性 光栅 防伪特征 功能实现 光栅结构 耐磨保护 频率光栅 证卡信息 基材层 基材 刻录 承载 保留 安全 | ||
1.一种可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，包括：1基材层，光学微结构载体层，镀膜层；
所述基材的厚度设置为12-100um，所述光学微结构载体层的厚度设置为1-3um，镀膜层30-500A；
所述光学微结构载体层根据承载的信息不同，设置成对应的刻录光栅结构频率光栅槽，以及光栅角度。
2.如权利要求1所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，包括：在所述基材层中添加含有激光标记添加剂，并设成称为激光标记添加剂的基材层；
并依次设置所述光学微结构防伪膜的结构为，激光标记添加剂的基材层，所述光学微结构载体层，以及所述镀膜层；所述镀膜层覆盖在所述光学微结构载体层的区域。
3.如权利要求2所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，
所述光学微结构防伪膜的结构还包括依次设置为，激光标记添加剂的基材层，所述光学微结构载体层，以及所述镀膜层；
所述镀膜层以及所述激光标记添加剂的基材层围设在所述光学微结构载体层的周侧。
4.如权利要求2所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，所述光学微结构防伪膜的结构还包括：在所述光学微结构载体层设定的区域覆盖所述镀膜层。
5.如权利要求4所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，还包括：在所述激光标记添加剂的基材层的设定区域上覆盖所述镀膜层。
6.如权利要求1所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，所述防伪膜的结构层依次设置为：所述基材层，激光标记添加剂的涂层，所述光学结构载体层，以及镀膜层；其中，在所述基材层中添加含有激光标记添加剂，并设称为所述激光标记添加剂的基材层；
所述镀膜层以及所述激光标记添加剂的涂层围设在所述光学微结构载体层的周侧。
7.如权利要求6所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，包括：所述防伪膜的结构层依次设置为：所述激光标记添加剂基材层，所述基材层，所述光学结构载体层，以及镀膜层；
所述镀膜层以及所述基材层围设在所述光学微结构载体层的周侧。
8.如权利要求2所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，包括：所述防伪膜的结构层依次设置为：所述基材层，所述光学结构载体层，镀膜层，以及所述激光标记添加剂基材层；
所述基材层以及所述镀膜层围设在所述光学微结构载体层的周侧。
9.如权利要求1所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，包括：所述防伪膜的结构层依次设置为：所述基材层，含有激光标记添加剂的微结构层，以及所述镀膜层；
所述光学微结构嵌设在所述含有激光标记添加剂的微结构以及所述镀膜层之间。
10.如权利要求1-9任一所述的可激光刻写的光学微结构防伪膜，其特征在于，包括：所述光学微结构设置在相应层上是通过注塑、UV光浇涛、模压热塑、热转移、冷转移，热烫、冷烫工艺形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海冠众光学科技有限公司，未经上海冠众光学科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721884658.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种带有光学微结构特征的轨道交通卡防伪膜
- 下一篇：一种新型多层标签
