[实用新型]基板处理装置有效
| 申请号： | 201721864776.3 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN208409547U | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 朴在旭;金柄俊 | 申请（专利权）人： | 凯斯科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B49/10 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人： | 朱健;陈国军 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种基板处理装置，基板处理装置包括研磨垫、监控部以及控制部，研磨垫用于对基板的研磨层进行研磨，监控部对研磨垫的温度信息进行监控，控制部基于研磨垫的温度信息对基板的研磨结束时间进行控制，据此可获得如下有利效果：精确地对基板的研磨厚度进行控制，并且使得研磨效率提高。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨垫 基板处理装置 研磨 对基板 温度信息 监控部 本实用新型 研磨效率 研磨层 监控 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：研磨垫，其用于对基板的研磨层进行研磨；监控部，其对所述研磨垫的温度信息进行监控；控制部，其基于所述研磨垫的温度信息对所述基板的研磨结束时间进行控制。
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