[实用新型]光刻装置有效
| 申请号： | 201721857232.4 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN207611235U | 公开（公告）日： | 2018-07-13 |
| 发明（设计）人： | 葛伟伟;柯汎宗;沈雪;黄志凯 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光刻装置。本实用新型提供了一种光刻装置，包括用于支撑光罩的支撑臂；所述支撑臂包括基底以及设置于所述基底表面的凸起，所述凸起用于与所述光罩接触并支撑所述光罩，以减小所述光罩与所述支撑臂的接触面积。本实用新型减少了所述支撑臂与光罩的接触面积，从而降低了所述支撑臂的磨损变形。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑臂 光罩 本实用新型 光刻装置 凸起 半导体制造技术 基底表面 磨损变形 支撑 基底 减小 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，其特征在于，包括用于支撑光罩的支撑臂；所述支撑臂包括基底以及设置于所述基底表面的凸起，所述凸起用于与所述光罩接触并支撑所述光罩，以减小所述光罩与所述支撑臂的接触面积。
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