[实用新型]抛光垫及其抛光装置有效
| 申请号： | 201721752620.6 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN207788624U | 公开（公告）日： | 2018-08-31 |
| 发明（设计）人： | 冯光建;夏秋良 | 申请（专利权）人： | 苏州新美光纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/22 | 分类号： | B24B37/22;B24B37/24 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 周宇 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种抛光垫及其抛光装置，涉及半导体技术领域，为解决抛光布随着使用时间的延长，其运输抛光液的能力会大大降低，可能对抛光效果产生不良影响的问题而设计。涉及一种抛光垫，包括：抛光布本体，抛光布本体上设有至少一个凹槽，至少一个凹槽内设有用于限制抛光液流动的填充物。还涉及一种抛光装置，包括：抛光机大盘和上述的抛光垫，抛光垫固定在抛光机大盘上。该抛光垫及其抛光装置的使用寿命较长且实用性较强。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光垫 抛光装置 抛光布 抛光机 抛光液 大盘 半导体技术领域 本实用新型 填充物 抛光效果 使用寿命 流动 运输 | ||
【主权项】：
1.一种抛光垫，其特征在于，包括：抛光布本体(100)，所述抛光布本体(100)上设有至少一个凹槽(110)，至少一个所述凹槽(110)内设有用于限制抛光液流动的填充物(200)。
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