[实用新型]抛光垫及其抛光装置有效

专利信息
申请号: 201721752620.6 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN207788624U 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 冯光建;夏秋良 申请(专利权)人: 苏州新美光纳米科技有限公司
主分类号: B24B37/22 分类号: B24B37/22;B24B37/24
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 周宇
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 抛光垫 抛光装置 抛光布 抛光机 抛光液 大盘 半导体技术领域 本实用新型 填充物 抛光效果 使用寿命 流动 运输
【权利要求书】:

1.一种抛光垫,其特征在于,包括:抛光布本体(100),所述抛光布本体(100)上设有至少一个凹槽(110),至少一个所述凹槽(110)内设有用于限制抛光液流动的填充物(200)。

2.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述凹槽(110)为多个,各所述凹槽(110)内均设有填充物(200),且所述填充物(200)的高度小于所述凹槽(110)的深度。

3.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述凹槽(110)为多个,至少一个所述凹槽(110)内设有填充物(200),且所述填充物(200)的高度不大于所述凹槽(110)的深度。

4.根据权利要求1-3任一项所述的抛光垫,其特征在于,所述填充物(200)的材质采用无机材料;或者是,所述填充物(200)的材质采用微溶于碱液或者酸液的有机材料。

5.根据权利要求4所述的抛光垫,其特征在于,所述凹槽(110)为多个,多个所述凹槽(110)相互连通。

6.根据权利要求1-3、5任一项所述的抛光垫,其特征在于,所述凹槽(110)的横截面形状采用矩形、倒梯形、半圆形、倒三角形中的任一种。

7.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述抛光布本体(100)由上至下依次设有抛光层(120)、防水层(130)和胶粘层(140);

各所述凹槽(110)设置在所述抛光层(120)上。

8.根据权利要求7所述的抛光垫,其特征在于,所述抛光层(120)的材质采用聚氨酯、绒布、聚酯纤维中的任一种;

所述防水层(130)的材质采用环氧树脂、聚乙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯中的任一种;

所述胶粘层(140)的材质采用压敏胶、热敏胶、UV胶中的任一种。

9.根据权利要求8所述的抛光垫,其特征在于,所述抛光层(120)的厚度范围为100um~10mm;

所述防水层(130)的厚度范围为10um~1mm;

所述胶粘层(140)的厚度范围为10um~10mm。

10.一种抛光装置,其特征在于,包括抛光机大盘和上述的抛光垫,所述抛光垫固定在所述抛光机大盘上。

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