[实用新型]真空离子镀膜装置有效
申请号: | 201721553462.1 | 申请日: | 2017-11-20 |
公开(公告)号: | CN207452239U | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 付德君;李娜;曾晓梅 | 申请(专利权)人: | 武汉江海行纳米科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 蔡忠祥 |
地址: | 430000 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种真空离子镀膜装置,涉及离子镀膜领域,该装置包括:镀膜炉,其设有腔体,所述腔体内设有基片架、膜料和离子源,所述基片架用于承放待镀膜的基片,所述离子源用于使所述膜料成为蒸汽并镀在所述基片上;真空泵,其与所述腔体相连;冷水箱,其通过进水管与所述腔体相连,所述进水管上设有增压泵;热水箱,其通过出水管与所述腔体相连;以及冷水机,其通过冷水管与所述冷水箱相连,并通过热水管与所述热水箱相连。本实用新型中的真空离子镀膜装置能提高镀膜的质量。 | ||
搜索关键词: | 腔体 真空离子镀膜 本实用新型 基片架 进水管 冷水箱 离子源 热水箱 镀膜 膜料 离子镀膜 出水管 镀膜炉 冷水管 冷水机 热水管 增压泵 真空泵 承放 蒸汽 体内 | ||
【主权项】:
一种真空离子镀膜装置,其特征在于,包括:镀膜炉(1),其设有腔体(11),所述腔体(11)内设有基片架(12)、膜料(13)和离子源(14),所述基片架(12)用于承放待镀膜的基片,所述离子源(14)用于使所述膜料(13)成为蒸汽并镀在所述基片上;真空泵(2),其与所述腔体(11)相连;冷水箱(3),其通过进水管(31)与所述腔体(11)相连,所述进水管(31)上设有增压泵(32);热水箱(4),其通过出水管(41)与所述腔体(11)相连;以及冷水机(5),其通过冷水管(51)与所述冷水箱(3)相连,并通过热水管(52)与所述热水箱(4)相连。
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