[实用新型]真空离子镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种真空离子镀膜装置，涉及离子镀膜领域，该装置包括：镀膜炉，其设有腔体，所述腔体内设有基片架、膜料和离子源，所述基片架用于承放待镀膜的基片，所述离子源用于使所述膜料成为蒸汽并镀在所述基片上；真空泵，其与所述腔体相连；冷水箱，其通过进水管与所述腔体相连，所述进水管上设有增压泵；热水箱，其通过出水管与所述腔体相连；以及冷水机，其通过冷水管与所述冷水箱相连，并通过热水管与所述热水箱相连。本实用新型中的真空离子镀膜装置能提高镀膜的质量。

技术领域

本实用新型涉及离子镀膜领域，具体涉及一种真空离子镀膜装置。

背景技术

光学薄膜，就是在镜片上镶上一层或多层非常薄的特殊材料，使镜片能达到某种特定的光学效果。光学薄膜的制造是以真空蒸镀方式制作，最普通的方式为热电阻式，是将蒸镀材料在真空蒸镀机内置于电阻丝或片上，在高真空的情况下，加热使材料成为蒸气，直接镀于镜片上。

离子镀膜是目前发展起来的一种镀膜新技术，其将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域。但是在现有技术中，真空镀膜机在使用时，基片的镀膜厚度不易控制，且镀膜的质量及膜层的附着度不高，易从基片上脱落。

此外在真空离子镀层时需要对真空离子镀膜机进行不间断的冷却，以保证工艺要求。而目前的对真空离子镀膜机进行冷却的效果较差，从而会导致真空离子镀膜机过热而对镀膜带来影响，影响了镀膜质量。

实用新型内容

针对现有技术中存在的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种能提高镀膜的质量的真空离子镀膜装置。

为达到以上目的，本实用新型采取的技术方案是：

一种真空离子镀膜装置，包括：

镀膜炉，其设有腔体，所述腔体内设有基片架、膜料和离子源，所述基片架用于承放待镀膜的基片，所述离子源用于使所述膜料成为蒸汽并镀在所述基片上；

真空泵，其与所述腔体相连；

冷水箱，其通过进水管与所述腔体相连，所述进水管上设有增压泵；

热水箱，其通过出水管与所述腔体相连；以及

冷水机，其通过冷水管与所述冷水箱相连，并通过热水管与所述热水箱相连。

在上述技术方案的基础上，所述腔体内还设有电子枪，所述电子枪用于发射离子束。

在上述技术方案的基础上，所述镀膜炉顶端设有第一顶窗。

在上述技术方案的基础上，所述真空离子镀膜装置还包括罩体，所述罩体用于收容所述镀膜炉。

在上述技术方案的基础上，所述罩体上设有第二顶窗。

在上述技术方案的基础上，所述基片架上还设有基片加热器。

在上述技术方案的基础上，所述冷水箱和热水箱一体设置。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

(1)本实用新型中的真空离子镀膜装置包括冷水箱、热水箱和冷水机，可以在镀膜时对镀膜炉进行不间断的冷却，避免镀膜炉过热而对镀膜过程带来影响，保证了工艺要求，提高了镀膜的质量。

(2)本实用新型中的真空离子镀膜装置还包括电子枪，电子枪用于发射离子束，在离子束的辅助下，可以形成致密均匀的膜层结构，从而可以提高镀膜膜层的稳定性，提高了镀膜层的质量，使之不易脱落，达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的。

附图说明

图1为本实用新型中真空离子镀膜装置的结构示意图；