[实用新型]真空离子镀膜装置有效
| 申请号： | 201721553462.1 | 申请日： | 2017-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN207452239U | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 付德君;李娜;曾晓梅 | 申请（专利权）人： | 武汉江海行纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 蔡忠祥 |
| 地址： | 430000 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 腔体 真空离子镀膜 本实用新型 基片架 进水管 冷水箱 离子源 热水箱 镀膜 膜料 离子镀膜 出水管 镀膜炉 冷水管 冷水机 热水管 增压泵 真空泵 承放 蒸汽 体内 | ||
1.一种真空离子镀膜装置，其特征在于，包括：
镀膜炉(1)，其设有腔体(11)，所述腔体(11)内设有基片架(12)、膜料(13)和离子源(14)，所述基片架(12)用于承放待镀膜的基片，所述离子源(14)用于使所述膜料(13)成为蒸汽并镀在所述基片上；
真空泵(2)，其与所述腔体(11)相连；
冷水箱(3)，其通过进水管(31)与所述腔体(11)相连，所述进水管(31)上设有增压泵(32)；
热水箱(4)，其通过出水管(41)与所述腔体(11)相连；以及
冷水机(5)，其通过冷水管(51)与所述冷水箱(3)相连，并通过热水管(52)与所述热水箱(4)相连。
2.如权利要求1所述的真空离子镀膜装置，其特征在于：所述腔体(11)内还设有电子枪(6)，所述电子枪(6)用于发射离子束。
3.如权利要求1所述的真空离子镀膜装置，其特征在于：所述镀膜炉(1)顶端设有第一顶窗(15)。
4.如权利要求1所述的真空离子镀膜装置，其特征在于：所述真空离子镀膜装置还包括罩体(7)，所述罩体(7)用于收容所述镀膜炉(1)。
5.如权利要求4所述的真空离子镀膜装置，其特征在于：所述罩体(7)上设有第二顶窗(71)。
6.如权利要求1所述的真空离子镀膜装置，其特征在于：所述基片架(12)上还设有基片加热器(16)。
7.如权利要求1所述的真空离子镀膜装置，其特征在于：所述冷水箱(3)和热水箱(4)一体设置。
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