[实用新型]一种双磷源喷淋管高密度扩散装置

摘要

本实用新型公开一种双磷源喷淋管高密度扩散装置，包括：扩散炉、设置在扩散炉内腔上方的喷淋管及设置在扩散炉内腔下方的热电偶管和排气管，喷淋管为两个，两个所述喷淋管以扩散炉中心轴线为基准对称设置在扩散炉内腔上方左右两侧，喷淋管上从左到右依次设有第一喷淋部、第二喷淋部和第三喷淋部。使喷淋管上的喷淋孔直接对硅片部位喷淋氮气、氧气和磷源，使扩散炉管内部通入的氮气、氧气、磷源混合更加均匀，喷射面积大，进而使扩散反应更为均匀，硅片方块电阻均匀性得到改善。

主权项

1.一种双磷源喷淋管高密度扩散装置，包括：扩散炉(1)、设置在扩散炉(1)内腔上方的喷淋管(2)以及设置在扩散炉(1)内腔下方的热电偶管(3)和排气管(4)，其特征在于：所述喷淋管(2)为两个，两个所述喷淋管(2)以扩散炉(1)中心轴线为基准对称设置在扩散炉(1)内腔上方左右两侧，两个所述喷淋管(2)轴心线分别与所述扩散炉(1)轴心线所形成的平面夹角为75-85°，所述喷淋管(2)上从左到右依次设有第一喷淋部(5)、第二喷淋部(6)和第三喷淋部(7)。