[实用新型]一种具有电场的电路板化镍金镀槽有效
申请号: | 201720827439.0 | 申请日: | 2017-07-10 |
公开(公告)号: | CN207002846U | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | 徐志强 | 申请(专利权)人: | 昆山旭发电子有限公司 |
主分类号: | C23C18/42 | 分类号: | C23C18/42;C23C18/32 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 张佩璇 |
地址: | 215300 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具有电场的电路板化镍金镀槽,包括用于容纳电路板的镀槽本体,以及位于所述镀槽本体以外的相对布置的正电极板和负电极板;所述正电极板和负电极板均平行于所述电路板。本实用新型通过对镀槽中的镀浴引入电场,能够作用于各种金属阳离子,增加金属阳离子的活性,以使金属阳离子排布并深入电路板表面的厚度内,并且能够更紧密地结合在电路板表面,形成具有更高强度的镀层,有效地避免漏镀的产生,且缩短工艺时间、提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 电场 电路板 化镍金镀槽 | ||
【主权项】:
一种具有电场的电路板化镍金镀槽,包括用于容纳电路板的镀槽本体,其特征在于,还包括位于所述镀槽本体以外的相对布置的正电极板和负电极板;所述正电极板和负电极板均平行于所述电路板。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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