[实用新型]一种用于辅助基底溶剂热生长的支架有效
| 申请号： | 201720773753.5 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN206853735U | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | 沈新颖;朱路平;邴乃慈;王利军 | 申请（专利权）人： | 上海第二工业大学 |
| 主分类号： | B01L9/00 | 分类号： | B01L9/00 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司31200 | 代理人： | 王洁平 |
| 地址： | 201209 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于辅助基底溶剂热生长的支架。其包括底座、提手和卡槽；提手和底座垂直设置，底座的上表面向下设置凹槽，凹槽有若干个，每个凹槽的两侧壁相互平行，两侧壁上设置卡槽，卡槽的开口相对，卡槽和水平面之间形成夹角a，其大于0度小于180度。采用本实用新型的支架进行基底溶剂热生长时，只需将基底置于卡槽内即可；基底被固定在底座的卡槽内，可有效防止反应釜移动及溶剂热反应过程中基底的滑落；底座上备有多个卡槽，同时进行多个基底溶剂热生长，大大提高基底的制备效率，具有操作简单，制备高效等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 辅助 基底 溶剂 生长 支架 | ||
【主权项】：
一种用于辅助基底溶剂热生长的支架，其特征在于，其包括底座、提手和卡槽；提手和底座垂直设置，底座的上表面向下设置凹槽，凹槽有若干个，每个凹槽的两侧壁相互平行，两侧壁上设置卡槽，卡槽的开口相对，卡槽和水平面之间形成夹角a，其大于0度小于180度。
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