[实用新型]一种用于辅助基底溶剂热生长的支架有效
| 申请号： | 201720773753.5 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN206853735U | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | 沈新颖;朱路平;邴乃慈;王利军 | 申请（专利权）人： | 上海第二工业大学 |
| 主分类号： | B01L9/00 | 分类号： | B01L9/00 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司31200 | 代理人： | 王洁平 |
| 地址： | 201209 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 辅助 基底 溶剂 生长 支架 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于辅助基底溶剂热生长的支架，其特征在于，其包括底座、提手和卡槽；提手和底座垂直设置，底座的上表面向下设置凹槽，凹槽有若干个，每个凹槽的两侧壁相互平行，两侧壁上设置卡槽，卡槽的开口相对，卡槽和水平面之间形成夹角a，其大于0度小于180度。
2.根据权利要求1所述的用于辅助基底溶剂热生长的支架，其特征在于，底座呈圆柱体状。
3.根据权利要求1所述的用于辅助基底溶剂热生长的支架，其特征在于，提手为棒状。
4.根据权利要求1所述的用于辅助基底溶剂热生长的支架，其特征在于，凹槽的底部呈长方形。
5.根据权利要求1所述的用于辅助基底溶剂热生长的支架，其特征在于，卡槽的截面为类U型。
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