[实用新型]一种单晶硅加工用高温炭还原装置

摘要

本实用新型公开了一种单晶硅加工用高温炭还原装置，包括真空炉体，所述真空炉体内部设置有支架，所述支架上设置有石英坩埚，所述石英坩埚外侧围绕有电发热体，所述电发热体下端通过引出电极连接有可控硅电源，所述真空炉体侧面上设置有真空抽气管道，所述真空抽气管道另一端连接有真空泵，通过真空炉体来保护加工过程，在真空炉体内设置一个石英坩埚用于炭还原的热加工处理，通过电发热体来实现对于石英坩埚的加热，均匀设置的电发热体使得热量均匀分布，通过在石英坩埚内部设置的活动式支撑装置，可很好的夹持单晶硅，便于单晶硅均匀受热，提高了单晶硅加工的效率，值得推广。

主权项

一种单晶硅加工用高温炭还原装置，其特征在于：包括真空炉体(1)，所述真空炉体(1)内部设置有支架(2)，所述支架(2)上设置有石英坩埚(3)，所述石英坩埚(3)外侧围绕有电发热体(4)，所述电发热体(4)下端通过引出电极(5)连接有可控硅电源(6)，所述真空炉体(1)侧面上设置有真空抽气管道(7)，所述真空抽气管道(7)另一端连接有真空泵(8)；所述石英坩埚(3)包括坩埚主体(9)，所述坩埚主体(9)上端设置有一密封盖(10)，所述密封盖(10)内设置有冷凝器(11)，所述坩埚主体(9)内壁上设置有安装法兰(12)，所述安装法兰(12)连接有支撑套管(13)，所述支撑套管(13)内部嵌套有夹臂(14)，所述夹臂(14)外侧套有伸缩弹簧(15)。