[实用新型]一种单晶硅加工用高温炭还原装置有效
| 申请号： | 201720722069.4 | 申请日： | 2017-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN206927962U | 公开（公告）日： | 2018-01-26 |
| 发明（设计）人： | 吴永文 | 申请（专利权）人： | 吴永文 |
| 主分类号： | C30B33/02 | 分类号： | C30B33/02;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)11427 | 代理人： | 陈娟 |
| 地址： | 311800 浙江省绍兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 工用 高温 还原 装置 | ||
1.一种单晶硅加工用高温炭还原装置，其特征在于：包括真空炉体(1)，所述真空炉体(1)内部设置有支架(2)，所述支架(2)上设置有石英坩埚(3)，所述石英坩埚(3)外侧围绕有电发热体(4)，所述电发热体(4)下端通过引出电极(5)连接有可控硅电源(6)，所述真空炉体(1)侧面上设置有真空抽气管道(7)，所述真空抽气管道(7)另一端连接有真空泵(8)；
所述石英坩埚(3)包括坩埚主体(9)，所述坩埚主体(9)上端设置有一密封盖(10)，所述密封盖(10)内设置有冷凝器(11)，所述坩埚主体(9)内壁上设置有安装法兰(12)，所述安装法兰(12)连接有支撑套管(13)，所述支撑套管(13)内部嵌套有夹臂(14)，所述夹臂(14)外侧套有伸缩弹簧(15)。
2.根据权利要求1所述的一种单晶硅加工用高温炭还原装置，其特征在于：所述真空炉体(1)外侧设置有壁挂安装脚(16)与安装吊环(17)，所述壁挂安装脚(16)内设置有安装孔(18)。
3.根据权利要求1所述的一种单晶硅加工用高温炭还原装置，其特征在于：所述真空炉体(1)上设置有热电偶(19)，所述热电偶(19)连接有温度仪表(20)。
4.根据权利要求1所述的一种单晶硅加工用高温炭还原装置，其特征在于：所述真空炉体(1)上设置有人孔(21)。
5.根据权利要求1所述的一种单晶硅加工用高温炭还原装置，其特征在于：所述安装法兰(12)、支撑套管(13)、夹臂(14)与伸缩弹簧(15)均采用钨铁合金材料制成。
6.根据权利要求1所述的一种单晶硅加工用高温炭还原装置，其特征在于：所述夹臂(14)伸出支撑套管(13)的一端端面为圆弧形结构。
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