[实用新型]具有不均匀的气体流间隙的基板支撑组件有效
| 申请号： | 201720217297.6 | 申请日： | 2017-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN207021233U | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 栗田真一;R·L·蒂纳 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/20;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及具有不均匀的气体流间隙的基板支撑组件。本文所述实施方式一般涉及一种用于在等离子体处理腔室中使用以提供在基板支撑组件与等离子体处理腔室的侧壁之间流动的不均匀的气体流的基板支撑组件。在一个实施方式中，基板支撑组件包括基板支撑组件，基板支撑组件包括基板支撑主体，所述基板支撑主体限定所述基板支撑主体的至少第一侧面；以及角落区域和中心区域，角落区域和中心区域形成在基板支撑主体的第一侧面中，其中角落区域具有比中心区域的中心宽度小的角落宽度，宽度被限定在基板支撑主体的中心轴线与第一侧面之间。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 不均匀 气体 间隙 支撑 组件 | ||
【主权项】：
一种基板支撑组件，所述基板支撑组件包括：基板接收表面；以及侧面，所述侧面外接所述基板接收表面，所述侧面限定所述基板支撑组件的周界；其中角落区域和中心区域被限定在所述侧面上，其中所述角落区域具有比所述中心区域的中心宽度小的角落宽度，所述角落宽度和所述中心宽度被限定在所述基板支撑主体的中心轴线与所述侧面之间。
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