[实用新型]具有不均匀的气体流间隙的基板支撑组件

权利要求书

1.一种基板支撑组件，所述基板支撑组件包括：

基板接收表面；以及

侧面，所述侧面外接所述基板接收表面，所述侧面限定所述基板支撑组件的周界；其中角落区域和中心区域被限定在所述侧面上，其中所述角落区域具有比所述中心区域的中心宽度小的角落宽度，所述角落宽度和所述中心宽度被限定在所述基板支撑主体的中心轴线与所述侧面之间。

2.如权利要求1所述的基板支撑组件，其特征在于，所述中心宽度与所述角落宽度之间的差在5mm与60mm之间。

3.如权利要求1所述的基板支撑组件，其特征在于，所述中心宽度比所述角落宽度大30％至90％。

4.如权利要求1所述的基板支撑组件，其进一步包括：

矩形基板支撑主体，所述矩形基板支撑主体具有四个侧面；以及

可移除裙部，所述可移除裙部被附接至所述矩形基板支撑主体的所述侧面中的一个，其中所述可移除裙部限定所述角落区域和所述中心区域的边界。

5.如权利要求1所述的基板支撑组件，其特征在于，所述周界具有几何形状，所述几何形状优先将流相对于另一区域引向所述基板支撑组件的一个区域。

6.如权利要求1所述的基板支撑组件，其特征在于，所述周界的在所述角落区域中的部分具有曲率，并且所述周界的在所述中心区域中的部分是线性的。

7.如权利要求1所述的基板支撑组件，其特征在于，所述中心轴线穿过所述基板支撑组件的中心。

8.一种处理腔室，所述处理腔室包括：

腔室主体，所述腔室主体包括顶壁、侧壁和底壁，所述顶壁、侧壁和底壁限定所述腔室主体中的处理区域；以及

基板支撑组件，所述基板支撑组件被定位在所述处理区域中，所述基板支撑组件具有外部轮廓，所述外部轮廓被选择成相对于中心区域而优先向角落区域引导更多的在所述基板支撑组件与所述侧壁之间经过的流，或相对于所述角落区域而优先向所述中心区域引导更多的在所述基板支撑组件与所述侧壁之间经过的流。

9.如权利要求8所述的处理腔室，其特征在于，相对于所述基板支撑组件的所述角落区域，在所述基板支撑件的所述中心区域附近，所述基板支撑组件的所述外部轮廓与所述腔室主体的所述侧壁之间限定的间隙是不同的。

10.如权利要求8所述的处理腔室，其特征在于，所述角落区域被形成在所述基板支撑组件的第一侧面上，其中所述角落区域具有小于所述中心区域的中心宽度的角落宽度，所述角落宽度和所述中心宽度被限定在所述基板支撑组件的中心轴线与所述基板支撑组件的所述外部轮廓之间。

11.如权利要求10所述的处理腔室，其特征在于，所述中心宽度与所述角落宽度之间的差在5mm与60mm之间。

12.如权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，所述间隙具有在所述基板支撑组件的角落区域与所述腔室主体的所述侧壁之间限定的第一宽度，以及在所述基板支撑组件的所述中心区域与所述腔室主体的所述侧壁之间限定的第二宽度，其中所述第一宽度大于所述第二宽度，所述第一宽度和所述第二宽度被限定在所述基板支撑组件的所述外部轮廓和所述腔室主体的所述侧壁的内壁之间。

13.如权利要求12所述的处理腔室，其特征在于，所述第二宽度小于10mm。

14.如权利要求12所述的处理腔室，其特征在于，所述基板支撑组件的外部轮廓的所述中心区域是与所述侧壁紧密靠近的。

15.如权利要求12所述的处理腔室，其特征在于，所述第二宽度在10mm与40mm之间。

16.如权利要求15所述的处理腔室，其特征在于，所述中心区域包括所述侧壁的线性的表面，并且所述角落区域具有弯曲表面。

17.如权利要求10所述的处理腔室，其特征在于，所述基板支撑组件具有基本上四边形的形状。

18.如权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，相对于所述角落区域，所述间隙在所述中心区域处是窄的。

19.如权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，所述基板支撑组件进一步包括：

矩形基板支撑主体，所述矩形基板支撑主体具有四个侧面；以及

可移除裙部，所述可移除裙部被附接至所述矩形基板支撑主体的至少一个侧面。