[实用新型]一种类金刚石镀膜制备设备有效
申请号: | 201720039885.5 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN206580883U | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 杨永亮;李娜;岳莉;张泓筠;黄庆新 | 申请(专利权)人: | 凯里学院 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司31253 | 代理人: | 熊娴,冯子玲 |
地址: | 556011 贵州省黔东南苗*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本实用新型提供一种类金刚石镀膜制备设备,包括真空腔体、伴热装置、扩散器、流量控制器;其中,所述流量控制器一端设有导入管,另一端设有第一导出管,所述第一导出管与所述扩散器导通;所述扩散器通过第二导出管与所述真空腔体导通,所述伴热装置分别设置于所述第一导出管和所述第二导出管上。通过增加扩散器以及伴热装置,实现类金刚石镀膜制制备过程中液态前驱物的掺杂,从而提高了热稳定性,降低了薄膜的内应力,进一步地,通过设置清洗装置,将基片的清洗环节与类金刚石镀膜制备整合在一起,进一步提高了制备的效率。 | ||
搜索关键词: | 种类 金刚石 镀膜 制备 设备 | ||
【主权项】:
一种类金刚石镀膜制备设备,其特征在于,包括:真空腔体、伴热装置、扩散器、流量控制器和清洗装置;其中,所述流量控制器一端设有导入管,另一端设有第一导出管,所述第一导出管与所述扩散器导通;所述扩散器通过第二导出管与所述真空腔体导通,所述伴热装置分别设置于所述第一导出管和所述第二导出管上;所述清洗装置包含清洗腔体、承载盘、清洗喷头以及清洗液存储罐;其中,所述清洗腔体与所述真空腔体通过第一端口密封对接,所述清洗喷头对准所述承载盘,并于所述清洗液存储罐连接;所述承载盘用于承载基片。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的