[发明专利]一种适配于自取向液晶材料的辅助清洗剂及其应用

摘要

本发明公开了一种适配于自取向液晶材料的辅助清洗剂，其包括溶剂以及充分溶解在所述溶剂中的如式1～式4任一表示的清洗组分。本发明还公开了上述辅助清洗剂在液晶显示器领域中的应用。根据本发明的辅助清洗剂，当其应用于液晶面板的制作过程中时，首先通过利用该辅助清洗剂清洗TFT基板、CF基板，使TFT基板、CF基板表面产生多种类型的极性基团，继而后续以自取向液晶材料制备液晶取向层时，自取向液晶材料中的极性基团即可与该清洗组分之间产生分子间氢键，从而利用该清洗组分提高在基板表面吸附的能力，以有效解决现有技术中的由自取向液晶材料形成的液晶显示器中所存在的漏光问题。

主权项

一种适配于自取向液晶材料的辅助清洗剂，其特征在于，包括溶剂以及充分溶解在所述溶剂中的如式1～式4任一表示的清洗组分：其中，A基团为连接键、苯环或环烷烃；Sp基团选自连接键、‑O‑、‑S‑、‑CO‑、‑CO‑O‑、‑O‑CO‑、‑O‑CO‑O‑、‑CH＝CH‑、‑CF＝CF‑、‑C≡C‑、‑CH＝CH‑COO‑、‑OCO‑CH＝CH‑中的任意一种；B基团为‑OH或‑COOH；D基团为连接键或‑CH₂‑；E基团为连接键或C1～C5的烷烃；G基团为C2～C6的烷烃；n1表示A基团的个数，n1为不超过10的正整数；m表示‑Sp‑B‑的个数，m为不超过n1的正整数；n2表示D基团的个数，n2为不超过10的正整数；n3为式3中Sp基团的个数，n3为不超过5的正整数；n4为式4中B基团的个数，n4为不超过6的正整数。