[发明专利]一种适配于自取向液晶材料的辅助清洗剂及其应用

权利要求书

1.一种适配于自取向液晶材料的辅助清洗剂在清洗TFT基板和/或CF基板中的应用，其特征在于，所述辅助清洗剂包括溶剂以及充分溶解在所述溶剂中的清洗组分；

所述清洗组分选自式1-2或1-3中的任意一种：

；

在所述辅助清洗剂中，所述清洗组分的质量百分数为1%~5%；

所述辅助清洗剂用于清洗TFT基板或CF基板时，其中的清洗组分能够锚定在所述TFT基板或CF基板上，并且能够与滴加在所述TFT基板或CF基板上的自取向液晶材料中的极性基团产生分子间氢键，以提高自取向液晶材料在所述TFT基板或CF基板表面的吸附能力。

2.根据权利要求1所述的辅助清洗剂在清洗TFT基板和/或CF基板中的应用，其特征在于，所述溶剂选自水、N-乙基吡咯烷、γ-己内酯、二甲基亚砜、二氯甲烷、丙酮中的任意一种。

3.根据权利要求1-2任一项所述的辅助清洗剂在清洗TFT基板和/或CF基板中的应用，其特征在于，至少包括步骤：

S1、提供TFT基板和/或CF基板；

S2、采用所述辅助清洗剂清洗所述TFT基板和/或所述CF基板的表面；

S3、烘烤经过清洗的TFT基板和/或CF基板，使得所述辅助清洗剂中的清洗组分锚定在所述TFT基板和/或所述CF基板的表面上；其中，将所述经过清洗的TFT基板和/或CF基板置于100℃~150℃中烘烤1 min~10 min；

S4、利用自取向液晶材料在锚定有清洗组分的TFT基板和/或锚定有清洗组分的CF基板上形成液晶取向层。