[发明专利]光罩存储装置在审
| 申请号： | 201711456006.X | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108181784A | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 魏德萌 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光罩存储装置，所述光罩存储装置包括用于存储光罩的存储箱、驱动结构及检测器，所述存储箱包括箱体和箱门，所述箱门与所述箱体转动连接，所述驱动结构与所述箱门连接，所述箱门具有打开状态和闭合状态，所述驱动结构用于驱动所述箱门在打开状态或闭合状态之间转换，所述检测器用于检测所述箱门是处于打开状态还是处于闭合状态。本发明提出的光罩存储装置通过检测器可以检测所述箱门是出于打开状态还是处于闭合状态，从而可以对光罩的搬运过程进行监控，整个光罩存储装置结构简单、能够自动对光罩的搬运过程进行监控、不会造成设备停机、降低了光罩搬运的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 箱门 闭合状态 存储装置 检测器 驱动结构 搬运 存储箱 存储装置结构 箱体转动 监控 检测 停机 存储 驱动 转换 | ||
【主权项】：
1.一种光罩存储装置，其特征在于，包括用于存储光罩的存储箱、驱动结构及检测器，所述存储箱包括箱体和箱门，所述箱门与所述箱体转动连接，所述驱动结构与所述箱门连接，所述箱门具有打开状态和闭合状态，所述驱动结构用于驱动所述箱门在打开状态或闭合状态之间转换，所述检测器用于检测所述箱门是处于打开状态还是处于闭合状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711456006.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
