[发明专利]耐电弧的开裂阻止有效
申请号: | 201711440961.4 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN109473420B | 公开(公告)日: | 2023-01-10 |
发明(设计)人: | V·J·麦加海伊;N·A·保罗莫夫;姚绍宁;A·阿罗拉 | 申请(专利权)人: | 格芯美国公司 |
主分类号: | H01L23/60 | 分类号: | H01L23/60 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李峥;于静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及耐电弧的开裂阻止。本公开涉及半导体结构,更特别地,涉及耐电弧的开裂阻止结构及其制造方法。该结构包括:开裂阻止结构,其包括围绕集成电路的有源区域的双轨道;以及BOx穿通电接触,其将双轨道中的每一个电连接到下层衬底。 | ||
搜索关键词: | 电弧 开裂 阻止 | ||
【主权项】:
1.一种结构,包括:开裂阻止结构,其包括围绕集成电路的有源区域的双轨道;以及BOx穿通电接触,其将所述双轨道中的每一个电连接到下层衬底。
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