[发明专利]一种光刻胶软烘装置有效
| 申请号： | 201711427508.X | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN108196430B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 李威 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻胶软烘装置，包括：腔室，用于容置表面涂布有光刻胶的基板；热板，设置于所述腔室内，用于加热所述基板；热风刀，设置于所述腔室一端，用于使所述腔室产生预设方向的气流；以及排气口，对应所述热风刀设置于所述腔室的另一端，用于排出所述光刻胶经高温烘烤后蒸发形成的光阻颗粒；其中，所述排气口对应的排气管道内设置有变压真空吸附装置，用以调节排气压力来吸附所述光阻颗粒；远离所述排气口的一端设置有排气阀门，用以控制所述软烘装置进行排气。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 胶软烘 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶软烘装置，其特征在于，包括：腔室，用于容置表面涂布有光刻胶的基板；热板，设置于所述腔室内，用于加热所述基板；热风刀，设置于所述腔室一端，用于使所述腔室产生预设方向的气流；以及排气口，对应所述热风刀设置于所述腔室的另一端，用于排出所述光刻胶经高温烘烤后蒸发形成的光阻颗粒；其中，所述排气口对应设置有排气管道，在所述排气管道内设置有变压真空吸附装置，用以调节排气压力来吸附所述光阻颗粒；远离所述排气口的一端设置有排气阀门，用以控制所述软烘装置进行排气。
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