[发明专利]一种光刻胶软烘装置有效

专利信息
申请号: 201711427508.X 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN108196430B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 李威 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 胶软烘 装置
【权利要求书】:

1.一种光刻胶软烘装置,其特征在于,包括:

腔室,用于容置表面涂布有光刻胶的基板;

热板,设置于所述腔室内,用于加热所述基板;

热风刀,设置于所述腔室一端,用于使所述腔室产生预设方向的气流;以及

排气口,对应所述热风刀设置于所述腔室的另一端,用于排出所述光刻胶经高温烘烤后蒸发形成的光阻颗粒;

其中,所述排气口对应设置有排气管道,在所述排气管道内设置有变压真空吸附装置,用以调节排气压力来吸附所述光阻颗粒;远离所述排气口的一端设置有排气阀门,用以控制所述软烘装置进行排气;

其中,所述变压真空吸附装置包括:

真空腔室,所述真空腔室一端设置有入气口,相对另一端设置有出气口,所述入气口与所述出气口分别与所述排气管道密封连接;

吸附模块,呈条状间隔分布于所述真空腔室内且用于吸附光阻颗粒;及

第一支管与第二支管,分别设置于所述真空腔室的左侧壁以及右侧壁,且所述第一支管以及所述第二支管均设有气压调节阀,用以从所述真空腔室两端调节气压。

2.根据权利要求1所述的软烘装置,其特征在于,所述排气阀门为交流磁感阀。

3.根据权利要求2所述的软烘装置,其特征在于,所述软烘装置还包括控制端,所述交流磁感阀与所述控制端电性连接。

4.根据权利要求1所述的软烘装置,其特征在于,所述热板设置于所述腔室底部,用于承载所述基板;所述热风刀用于形成流经所述基板表面并流向所述排气口的气流。

5.根据权利要求4所述的软烘装置,其特征在于,所述腔室至少设置有两所述排气口,至少两所述排气口平行于所述基板表面间隔设置,一所述排气口对应设置有一所述排气管道,一所述排气管道对应设置一变压真空吸附装置以及一所述排气阀门。

6.根据权利要求5所述的软烘装置,其特征在于,不同所述排气管道内的所述排气阀门独立控制,通过局部开启所述排气阀门用以形成不同流向的所述气流。

7.根据权利要求5所述的软烘装置,其特征在于,至少两所述排气管道连接于一抽气装置上,用以增强排气速率。

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