[发明专利]一种光刻胶软烘装置有效
| 申请号: | 201711427508.X | 申请日: | 2017-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN108196430B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
| 发明(设计)人: | 李威 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
| 地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光刻 胶软烘 装置 | ||
本发明提供一种光刻胶软烘装置,包括:腔室,用于容置表面涂布有光刻胶的基板;热板,设置于所述腔室内,用于加热所述基板;热风刀,设置于所述腔室一端,用于使所述腔室产生预设方向的气流;以及排气口,对应所述热风刀设置于所述腔室的另一端,用于排出所述光刻胶经高温烘烤后蒸发形成的光阻颗粒;其中,所述排气口对应的排气管道内设置有变压真空吸附装置,用以调节排气压力来吸附所述光阻颗粒;远离所述排气口的一端设置有排气阀门,用以控制所述软烘装置进行排气。
技术领域
本发明涉及显示面板制造技术领域,尤其涉及一种光刻胶软烘装置。
背景技术
显示面板的制造过程中,TFT侧曝光部的生产工艺包括:玻璃基板完成清洗,涂布上光阻后(Coater),经过烘烤(Pre-bake),再进入曝光机(Exposure),利用MASK在玻璃基板上对光阻定义图形;然后再经过显影制程(Developer)显示图形。
玻璃基板涂布制程完成后,基板进入软烘(Soft Bake)单元进行软烘制程。目前基板软烘制程所用设备CSOT T3 Photo机台在Photo Line连续run货过程中,对应黄光制程来说,光阻残留对产品良率有着非常重要的影响,小颗残留会影响到产品电信号以及屏幕品质,大颗产品直接会影响基板质量降等甚至报废,这其中软烘制程对光阻残留影响尤其明显。软烘制程过程中,玻璃基板上面的光阻由于高温烘烤而蒸发,形成光阻颗粒充满整个制程腔室(Chamber)中。
目前CSOT T3 Photo机台软烘装置设计存在着排气能力不足,导致制程产生的光阻颗粒无法完全被抽出制程腔室,光阻颗粒掉在基板上,就会产生光阻残留。与此同时,软烘排气阀门设计缺陷导致抽出的光阻颗粒凝结在排气阀门上面,导致阀门与水平橡胶垫产生摩擦,造成软烘排气报警宕机。
发明内容
本发明提供一种光刻胶软烘装置,能够增大软烘制程排气能力,迅速吸附热排气中高温光阻颗粒,避免排气阀门宕机。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明提供一种光刻胶软烘装置,包括:
腔室,用于容置表面涂布有光刻胶的基板;
热板,设置于所述腔室内,用于加热所述基板;
热风刀,设置于所述腔室一端,用于使所述腔室产生预设方向的气流;以及
排气口,对应所述热风刀设置于所述腔室的另一端,用于排出所述光刻胶经高温烘烤后蒸发形成的光阻颗粒;
其中,所述排气口对应设置有排气管道,在所述排气管道内设置有变压真空吸附装置,用以调节排气压力来吸附所述光阻颗粒;远离所述排气口的一端设置有排气阀门,用以控制所述软烘装置进行排气。
根据本发明一优选实施例,所述变压真空吸附装置设置有气压调节阀以及吸附模块。
根据本发明一优选实施例,所述变压真空吸附装置包括循环冷凝装置,用于冷凝所述排气管道中的所述光阻颗粒。
根据本发明一优选实施例,所述循环冷凝装置中设置有冷凝板/冷凝管,其中,所述冷凝板/冷凝管呈U形、“回”字形或者螺旋形。
根据本发明一优选实施例,所述排气阀门为交流磁感阀。
根据本发明一优选实施例,所述软烘装置还包括控制端,所述交流磁感阀与所述控制端电性连接。
根据本发明一优选实施例,所述热板设置于所述腔室底部,用于承载所述基板;所述热风刀用于形成流经所述基板表面并流向所述排气口的气流。
根据本发明一优选实施例,所述腔室至少设置有两所述排气口,至少两所述排气口平行于所述基板表面间隔设置,一所述排气口对应设置有一所述排气管道,一所述排气管道对应设置一变压真空吸附装置以及一所述排气阀门。
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