[发明专利]平面面板显示器制造装置在审
| 申请号： | 201711372925.9 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN109817546A | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 高桥元喜;永尾友一;立道润一;井内裕 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677;H05B33/10;H05F3/04;G02F1/13 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;章侃铱 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有静电消除装置的平面面板显示器制造装置，该静电消除装置适于在高真空下的玻璃基板的静电消除。平面面板显示器制造装置(ID)具备有：处理舱室(1)，其对玻璃基板(S)施予加工处理；以及搬运路径(3)，其形成将玻璃基板(S)搬入或搬出处理舱室(1)的搬入搬出路径；其中，处理舱室(1)及搬运路径(3)为处于真空环境下，且静电消除装置(O)连接于构成搬运路径(3)的真空容器的外壁面，该静电消除装置(O)朝向真空容器的内侧释放玻璃基板(S)的静电消除用的电子。 | ||
| 搜索关键词： | 静电消除装置 玻璃基板 平面面板显示器 舱室 搬运路径 制造装置 静电消除 真空容器 搬入 真空环境 高真空 外壁面 搬出 释放 | ||
【主权项】：
1.一种平面面板显示器制造装置，具备有：处理舱室，其对玻璃基板施予加工处理；以及搬运路径，其形成将玻璃基板搬入搬出所述处理舱室的搬入搬出路径；其中所述处理舱室和所述搬运路径处于真空环境下，于构成所述搬运路径的真空容器的外壁面，连接有朝向所述真空容器的内侧释放所述玻璃基板的静电消除用的电子的静电消除装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
