[发明专利]平面面板显示器制造装置在审
| 申请号： | 201711372925.9 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN109817546A | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 高桥元喜;永尾友一;立道润一;井内裕 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677;H05B33/10;H05F3/04;G02F1/13 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;章侃铱 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 静电消除装置 玻璃基板 平面面板显示器 舱室 搬运路径 制造装置 静电消除 真空容器 搬入 真空环境 高真空 外壁面 搬出 释放 | ||
1.一种平面面板显示器制造装置，具备有：
处理舱室，其对玻璃基板施予加工处理；以及
搬运路径，其形成将玻璃基板搬入搬出所述处理舱室的搬入搬出路径；其中
所述处理舱室和所述搬运路径处于真空环境下，
于构成所述搬运路径的真空容器的外壁面，连接有朝向所述真空容器的内侧释放所述玻璃基板的静电消除用的电子的静电消除装置。
2.根据权利要求1所述的平面面板显示器制造装置，其中，
所述静电消除装置具备有：
通过被导入的气体的电离，在舱室内产生等离子的等离子舱室；并从同舱室内释放所述玻璃基板的静电消除用的等离子。
3.根据权利要求2所述的平面面板显示器制造装置，其中，
所述静电消除装置具有：
用以从所述等离子舱室传输等离子至所述搬运路径的等离子传输路径；
在与等离子的传输方向成垂直的裁断剖面中，所述等离子传输路径的裁断剖面较所述等离子舱室的裁断剖面还小。
4.根据权利要求3所述的平面面板显示器制造装置，其中，在所述等离子传输路径形成有沿着等离子的传输方向的磁场。
5.根据权利要求3所述的平面面板显示器制造装置，其中，在所述等离子传输路径的外周设置有对传输路径内产生尖磁场的永久磁铁。
6.根据权利要求3至5中任一所述的平面面板显示器制造装置，其中，在所述等离子传输路径设置有传输路径开闭用的阀体。
7.根据权利要求3至6中任一所述的平面面板显示器制造装置，其中，在所述搬运路径中，进行从所述玻璃基板的侧方通过所述等离子传输路径来供应要给所述玻璃基板的等离子。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
