[发明专利]显示装置、半透半反的阵列基板及其制造方法有效
申请号: | 201711362732.5 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN107908054B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 徐向阳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种显示装置、半透半反的阵列基板及其制造方法。半透半反的阵列基板包括多条扫描线、数据线以及像素单元,每个像素单元包括TFT开关管、光阻层以及像素电极,光阻层设置在TFT开关管上;每个像素单元包括反射区,在反射区进一步设置有反射层,反射层设置在光阻层的上方。因此,可提高光的反射效率,提高显示装置的亮度,从而提高用户的体验。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 半透半反 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半透半反的阵列基板,其特征在于,所述半透半反的阵列基板包括多条扫描线、多条与所述扫描线相交的数据线以及多个由相交的所述扫描线和数据线围设而成的像素单元,每个所述像素单元包括TFT开关管、光阻层以及像素电极,其中所述TFT开关管分别与所述扫描线、数据线以及像素电极电连接,所述光阻层设置在所述TFT开关管上;每个所述像素单元还包括反射区,其中在所述反射区进一步设置有反射层,所述反射层设置在所述光阻层的上方,以避免外部光线进入所述反射区时被所述光阻层过滤。
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