[发明专利]显示装置、半透半反的阵列基板及其制造方法

说明书

本发明公开了一种显示装置、半透半反的阵列基板及其制造方法。半透半反的阵列基板包括多条扫描线、数据线以及像素单元，每个像素单元包括TFT开关管、光阻层以及像素电极，光阻层设置在TFT开关管上；每个像素单元包括反射区，在反射区进一步设置有反射层，反射层设置在光阻层的上方。因此，可提高光的反射效率，提高显示装置的亮度，从而提高用户的体验。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种显示装置、半透半反的阵列基板及其制造方法。

背景技术

半透半反式液晶显示装置(Trans-flective Liquid Crystal Display)同时具有透射式和反射式特性，半透半反式液晶面板在一个像素单元内包括有透明电极的透射区和有反射层的反射区。在黑暗的地方可以利用像素区域的透射区和背光源来显示画像，在明亮的地方利用像素区域的反射区和外光来显示画像。因此，半透半反式液晶显示装置可以适应不同的亮暗环境而得到广泛应用。

但现有的半透半反液晶显示装置的亮度较低，影响用户体验。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种显示装置、半透半反的阵列基板及其制造方法，能够提高显示装置的亮度，从而提高用户的体验。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种半透半反的阵列基板，该半透半反的阵列基板包括多条扫描线、多条与扫描线相交的数据线以及多个由相交的扫描线和数据线围设而成的像素单元，每个像素单元包括TFT开关管、光阻层以及像素电极，其中TFT开关管分别与扫描线、数据线以及像素电极电连接，光阻层设置在TFT开关管上；每个像素单元还包括反射区，其中在反射区进一步设置有反射层，反射层设置在光阻层的上方，以避免外部光线进入反射区时被光阻层过滤。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种半透半反的阵列基板的制造方法，该半透半反的阵列基板包括多个像素单元，每个像素单元包括反射区，制造方法包括以下步骤：设置多条扫描线、多条与扫描线相交的数据线以及多个TFT开关管，其中，相交的多条扫描线和多条数据线围设成多个像素单元，TFT开关管设置在像素单元内并分别与扫描线和数据线电连接；在每个像素单元的TFT开关管的上方设置对应的光阻层；在光阻层的上方设置对应每个像素单元的像素电极，其中，TFT开关管进一步与像素电极电连接；在反射区中并位于光阻层的上方设置反射层，以避免外部光线进入反射区时被光阻层过滤。

为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种显示装置，该显示装置包括前文任一项所述的半透半反的阵列基板。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供一种显示装置、半透半反的阵列基板及其制造方法。该半透半反的阵列基板包括多条扫描线、多条与扫描线相交的数据线以及多个由相交的扫描线和数据线围设而成的像素单元，每个像素单元包括TFT开关管、光阻层以及像素电极，其中TFT开关管分别与扫描线、数据线以及像素电极电连接，光阻层设置在TFT开关管上，每个像素单元还包括反射区，其中在反射区进一步设置有反射层，反射层设置在光阻层的上方，以避免外部光线进入反射区时被光阻层过滤。因此，从外部入射的环境光首先会接触到反射层，进而被反射层反射出去，而不会进入到光阻层被光阻层过滤，由此可提高光的反射效率，提高显示装置的亮度，从而提高用户的体验。

附图说明

图1是本发明实施例提供的一种半透半反阵列基板的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种半透半反的阵列基板的制造方法的流程示意图；

图3-图6是图2所示的制造方法的工艺制程示意图；

图7是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式