[发明专利]量子点薄膜及其制备方法、QLED器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711353498.X 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN109935736A 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 曹蔚然;杨一行;向超宇;钱磊;梁柱荣 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 官建红
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于量子点技术领域,尤其涉及一种量子点薄膜及其制备方法,以及一种QLED器件及其制备方法。该量子点薄膜的制备方法包括如下步骤:提供量子点预制薄膜和含有无机配体的溶液,所述量子点预制薄膜中的量子点含有初始表面配体;将所述量子点预制薄膜与所述含有无机配体的溶液进行液相配体置换,得到量子点表面结合所述无机配体的量子点薄膜。本发明不仅能够钝化量子点表面有机配体不能钝化的地方,而且提高载流子的传输,最终提高器件整体性能。
搜索关键词: 量子点 薄膜 制备 无机配体 预制 量子点表面 钝化 载流子 表面配体 有机配体 相配 置换 传输
【主权项】:
1.一种量子点薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:提供量子点预制薄膜和含有无机配体的溶液,所述量子点预制薄膜中的量子点含有初始表面配体;将所述量子点预制薄膜与所述含有无机配体的溶液进行液相配体置换,得到量子点表面结合所述无机配体的量子点薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL集团股份有限公司,未经TCL集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711353498.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top