[发明专利]硅基彩色OLED微显示器件及其制作方法

摘要

本发明公开一种硅基彩色OLED微显示器件，包括CMOS电路硅基底；在所述CMOS电路硅基底的表面间隔制作像素阳极，在相邻像素阳极的间隙处制作反射阻挡层，在像素阳极上依次蒸镀空穴注入层HIL、空穴传输层HTL、发光层EML、电子传输层ETL、电子注入层EIL、透明阴极；在透明阴极上封装薄膜层；在封装薄膜层上制作彩色光阻层；在彩色光阻层上贴合玻璃盖片。本发明具有避免混色、提高微显示器件的显示亮度和对比度的优点。

主权项

1.一种硅基彩色OLED微显示器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、在CMOS电路硅基底(100)上制作像素阳极(200)；S2、在相邻像素阳极(200)间隔处制作反射阻挡层(800)；S3、在像素阳极(200)上依次蒸镀空穴注入层HIL(301)、空穴传输层HTL(302)、发光层EML(303)、电子传输层ETL(304)、电子注入层EIL(305)、透明阴极(400)；S4、透明阴极(400)上封装薄膜层(500)；S5、在封装薄膜层(500)上制作彩色光阻层(600)；S6、在彩色光阻层(600)上贴合玻璃盖片(700)；S7、切割后，获得产物。