[发明专利]曝光机构、曝光装置及曝光系统

摘要

本发明涉及一种曝光机构、曝光装置及曝光系统，曝光系统包括：光罩；支撑台，包括第一支撑台及第二支撑台，所述第一支撑台与所述第二支撑台之间的间距可调，以适应不同尺寸的曝光平台，所述第一支撑台及所述第二支撑台远离所述支架的表面用于承载所述光罩的两端；曝光平台，位于所述光罩下方并位于所述第一支撑台及第二支撑台之间，用以放置待曝光元件；支架，位于所述曝光装置底部以用于支撑所述曝光平台及所述支撑台。上述曝光机构、曝光装置及曝光系统，实现了对待曝光元件的多尺寸兼容，节省了曝光成本。

主权项

一种曝光机构，用于安装于工作台上以承载光罩以及曝光平台，所述曝光平台用于承载待曝光元件，其特征在于，所述曝光装置包括：支架，包括相对的承载表面以及安装表面，所述安装表面用于与工作台连接；以及支撑组件，包括第一支撑台及第二支撑台，所述第一支撑台及所述第二支撑台分别设于所述承载表面上，所述第一支撑台与所述第二支撑台之间的间距可调，以适应不同尺寸的曝光平台，所述第一支撑台及所述第二支撑台远离所述支架的表面用于承载横跨于所述支撑组件上的光罩的两端。