[发明专利]曝光机构、曝光装置及曝光系统

说明书

本发明涉及一种曝光机构、曝光装置及曝光系统，曝光系统包括：光罩；支撑台，包括第一支撑台及第二支撑台，所述第一支撑台与所述第二支撑台之间的间距可调，以适应不同尺寸的曝光平台，所述第一支撑台及所述第二支撑台远离所述支架的表面用于承载所述光罩的两端；曝光平台，位于所述光罩下方并位于所述第一支撑台及第二支撑台之间，用以放置待曝光元件；支架，位于所述曝光装置底部以用于支撑所述曝光平台及所述支撑台。上述曝光机构、曝光装置及曝光系统，实现了对待曝光元件的多尺寸兼容，节省了曝光成本。

技术领域

本发明涉及触控显示领域，特别是涉及一种曝光机构、曝光装置及曝光系统。

背景技术

在加工触控面板所需线路的过程中，通常先将光敏材料涂布在导电玻璃(ITO基板)上，再通过紫外线光穿过特质的光罩进行曝光，再经过显影、蚀刻等工序，从而得到触控面板所需要的ITO线路。

在此加工方式中，所需要的曝光装置主要为进口装置，其中每代曝光装置只能对应于单一尺寸的ITO基板，无法做到覆盖范围广、多尺寸兼容的效果。

发明内容

基于此，有必要针对曝光装置无法实现多尺寸兼容的问题，提供一种曝光机构、曝光装置及曝光系统。

一种曝光机构，用于安装于工作台上以承载光罩以及曝光平台，所述曝光平台用于承载待曝光元件，所述曝光装置包括：

支架，包括相对的承载表面以及安装表面，所述安装表面用于与工作台连接；以及

支撑组件，包括第一支撑台及第二支撑台，所述第一支撑台及所述第二支撑台分别设于所述承载表面上，所述第一支撑台与所述第二支撑台之间的间距可调，以适应不同尺寸的曝光平台，所述第一支撑台及所述第二支撑台远离所述支架的表面用于承载横跨于所述支撑组件上的光罩的两端。

在其中一个实施例中，所述曝光机构还包括驱动组件，所述驱动组件设于所述支架的承载表面，且与所述第一支撑台或所述第二支撑台连接，所述驱动组件用于驱动与其连接的所述第一支撑台或所述第二支撑台移动，以调节所述第一支撑台与所述第二支撑台之间的间距。

在其中一个实施例中，所述支架包括主支架及两个副支架，两个所述副支架分别设于所述主支架两端，且所述副支架与所述主支架间隔设置；

所述驱动组件的数目为两个，驱动组件所述第一支撑台一端与所述主支架的承载表面连接，另一端通过一个所述驱动组件与所述副支架的承载表面连接，所述第二支撑台一端与所述主支架的承载表面连接，另一端通过另一个所述驱动组件与所述副支架的承载表面连接驱动组件。

在其中一个实施例中，所述驱动组件包括滑轨、滑块及伺服电机，所述滑轨固定于所述副支架上，所述滑块一端与所述滑轨连接，所述滑块与所述滑轨相对的另一端与对应的所述第一支撑台或所述第二支撑台固定，所述伺服电机与所述滑轨传动连接。

在其中一个实施例中，所述曝光装置还包括两组支撑块，两组所述支撑块分别安装在所述第一支撑台及所述第二支撑台相邻于所述曝光平台的表面边缘处，用以支撑所述光罩。

在其中一个实施例中，所述曝光机构还包括两组反翘曲件，两个所述反翘曲件分别固定于所述第一支撑台及所述第二支撑台上，以分别下压所述光罩两端的边缘处。

一种曝光装置，包括：

上述曝光机构；以及

曝光平台，所述曝光平台设于所述第一支撑台与所述第二支撑台之间。

在其中一个实施例中，所述曝光平台包括主平台以及多个相互独立的子平台，所述主平台与不同数目的所述子平台拼装以形成不同尺寸的所述曝光平台。

一种曝光系统，包括：

上述曝光装置；以及