[发明专利]曝光机构、曝光装置及曝光系统

权利要求书

1.一种曝光机构，用于安装于工作台上以承载光罩以及曝光平台，所述曝光平台用于承载待曝光元件，其特征在于，所述曝光机构包括：

支架，包括相对的承载表面以及安装表面，所述安装表面用于与工作台连接，所述支架包括主支架及两个副支架，两个所述副支架分别设于所述主支架两端，且所述副支架与所述主支架间隔设置，所述主支架的承载表面与所述副支架的承载表面错位；以及

支撑组件，包括第一支撑台及第二支撑台，所述第一支撑台及所述第二支撑台分别设于所述承载表面上，所述第一支撑台与所述第二支撑台之间的间距可调，以适应不同尺寸的曝光平台，所述第一支撑台及所述第二支撑台远离所述支架的表面用于承载横跨于所述支撑组件上的光罩的两端；以及

驱动组件，设于所述支架的承载表面，且与所述第一支撑台和/或所述第二支撑台连接，所述驱动组件用于驱动与其连接的所述第一支撑台和/或所述第二支撑台移动，以调节所述第一支撑台与所述第二支撑台之间的间距。

2.根据权利要求1所述的曝光机构，其特征在于，所述第一支撑台的一端、所述第二支撑台的一端均与所述主支架的承载表面抵接，所述第一支撑台的另一端及所述第二支撑台的另一端通过一个所述驱动组件与所述副支架的承载表面连接。

3.根据权利要求1所述的曝光机构，其特征在于，所述驱动组件的数目为两个，两个所述驱动组件分别对应于所述第一支撑台及所述第二支撑台。

4.根据权利要求1所述的曝光机构，其特征在于，所述驱动组件包括滑轨、滑块及伺服电机，所述滑轨固定于所述副支架上，所述滑块一端与所述滑轨连接，所述滑块与所述滑轨相对的另一端与对应的所述第一支撑台或所述第二支撑台固定，所述伺服电机与所述滑轨传动连接。

5.根据权利要求1所述的曝光机构，其特征在于，所述曝光机构还包括两组支撑块，两组所述支撑块分别安装在所述第一支撑台及所述第二支撑台相邻于所述曝光平台的表面边缘处，用以支撑所述光罩。

6.根据权利要求1所述的曝光机构，其特征在于，所述曝光机构还包括两组反翘曲件，两个所述反翘曲件分别固定于所述第一支撑台及所述第二支撑台上，以分别下压所述光罩两端的边缘处。

7.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括：

权利要求1至6任意一项所述的曝光机构；以及

曝光平台，所述曝光平台设于所述第一支撑台与所述第二支撑台之间。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光平台包括主平台以及多个相互独立的子平台，所述主平台与不同数目的所述子平台拼装以形成不同尺寸的所述曝光平台。

9.一种曝光系统，其特征在于，所述曝光系统包括：

权利要求7或8所述的曝光装置；以及

光罩，所述光罩横跨于所述支撑组件，且所述光罩的两端分别与所述第一支撑台及所述第二支撑台远离所述支架的表面连接。

10.根据权利要求9所述的曝光系统，其特征在于，所述光罩的尺寸与所述第一支撑台及所述第二支撑台之间的最大间距匹配。