[发明专利]一种光学功能膜及其制备方法在审
申请号: | 201711304310.2 | 申请日: | 2017-12-06 |
公开(公告)号: | CN108254808A | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 欧德旭;潘硕;陈章荣 | 申请(专利权)人: | 惠州市华阳光学技术有限公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李庆波 |
地址: | 516005 广东省惠州市东江高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种光学功能膜及其制备方法,其中,所述光学功能膜包括多个层叠而成的单元薄膜,每个所述单元薄膜包括由含氟化物材料制备的介质层,其中,所述含氟化物材料包括主材料和掺杂材料,多个所述介质层的累积厚度大于4μm。通过上述方式,由于所述含氟化物材料中的主材料和掺杂材料相互配合,减小了所述单元薄膜之间的应力,使得制备的所述光学功能膜包含更多个所述单元薄膜,并能够使所述光学功能膜中,所述介质层的累计厚度达到4μm以上,有效提高了所述光学功能膜的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 光学功能膜 单元薄膜 制备 氟化物材料 介质层 掺杂材料 主材料 生产效率 减小 配合 | ||
【主权项】:
1.一种光学功能膜,其特征在于,所述光学功能膜包括多个层叠而成的单元薄膜,每个所述单元薄膜包括由含氟化物材料制备的介质层,其中,所述含氟化物材料包括主材料和掺杂材料,多个所述介质层的累积厚度大于4μm。
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