[发明专利]一种光学功能膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种光学功能膜及其制备方法，其中，所述光学功能膜包括多个层叠而成的单元薄膜，每个所述单元薄膜包括由含氟化物材料制备的介质层，其中，所述含氟化物材料包括主材料和掺杂材料，多个所述介质层的累积厚度大于4μm。通过上述方式，由于所述含氟化物材料中的主材料和掺杂材料相互配合，减小了所述单元薄膜之间的应力，使得制备的所述光学功能膜包含更多个所述单元薄膜，并能够使所述光学功能膜中，所述介质层的累计厚度达到4μm以上，有效提高了所述光学功能膜的生产效率。

技术领域

本发明涉及光学功能膜领域，特别是涉及一种光学功能膜及其制备方法。

背景技术

光学功能膜通常采用物理气相沉积的方法进行制备，对于物理气相沉积的过程中，即便同一个基底上只沉积一个膜层单元，都需要进行升温、抽真空等过程，操作较为麻烦，操作周期长。而现有技术中，每个所述基底上沉积的所述光学功能膜中包括的所述膜层单元的个数较少，所述膜层单元中的介质层的累计厚度只有1-2μm，且每个所述膜层单元经处理后得到光学功能膜产品，因此，现有技术中所述光学功能膜产品的生产效率较低。

因此，现有技术有待进一步改进。

发明内容

本发明提供了一种光学功能膜及其制备方法，能够解决现有技术中，所述光学功能膜产品的生产周期长、生产效率低的问题。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：一种光学功能膜。

其中，包括：

多个层叠而成的单元薄膜，每个所述单元薄膜包括由含氟化物材料制备的介质层，其中，所述含氟化物材料包括主材料和掺杂材料，多个所述介质层的累积厚度大于4μm。

其中，所述含氟化物材料包括主材料和掺杂材料。

其中，所述主材料为氟化镁，所述掺杂材料包括氟化钙、氟化钡或氟化铝中的一种或多种。

其中，所述含氟化物材料中，所述主材料的质量分数为80％-100％。

其中，所述含氟化物材料的状态为烧结非晶体状态。

其中，所述单元薄膜包括依次通过沉积而形成的第一脱膜层、第一吸收层、第一介质层、反射层、第二介质层以及第二吸收层。

其中，所述单元薄膜的膨胀系数为10^-6-10^-4/K；制备所述光学功能膜的基底的膨胀系数为10^-6-10^-4/K。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：一种光学功能膜的制备方法。

其中，包括：

提供基底；

在所述基底上层叠形成多个单元薄膜，其中，每个所述单元薄膜包括由含氟化物材料制备的介质层，多个所述介质层的累积厚度大于4μm。

其中，所述含氟化物材料包括主材料和掺杂材料。

其中，所述主材料为氟化镁，所述掺杂材料包括氟化钙、氟化钡或氟化铝中的一种或多种；所述含氟化物材料中，所述主材料的质量分数为80％-100％；所述含氟化物材料的状态为烧结非晶体状态。

其中，所述在所述基底上层叠形成多个单元薄膜，包括：

在所述基底上通过沉积的方式层叠形成多个单元薄膜，每个所述单元薄膜包括依次通过沉积而形成的第一脱膜层、第一吸收层、第一介质层、反射层、第二介质层以及第二吸收层。

其中，所述基底的膨胀系数为10^-6-10^-4/K；所述单元薄膜的膨胀系数为10^-6-10^-4/K。