[发明专利]一种光学功能膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光学功能膜，其特征在于，所述光学功能膜包括多个层叠而成的单元薄膜，每个所述单元薄膜包括由含氟化物材料制备的介质层，其中，所述含氟化物材料包括主材料和掺杂材料，多个所述介质层的累积厚度大于4μm。

2.如权利要求1所述的光学功能膜，其特征在于，所述主材料为氟化镁，所述掺杂材料包括氟化钙、氟化钡或氟化铝中的一种或多种。

3.如权利要求1所述的光学功能膜，其特征在于，所述含氟化物材料中，所述主材料的质量分数为80％-100％。

4.如权利要求1所述的光学功能膜，其特征在于，所述含氟化物材料的状态为烧结非晶体状态。

5.如权利要求1所述的光学功能膜，其特征在于，所述单元薄膜包括依次通过沉积而形成的第一脱膜层、第一吸收层、第一介质层、反射层、第二介质层以及第二吸收层。

6.如权利要求5所述的光学功能膜，其特征在于，所述单元薄膜的膨胀系数为10^-6-10^-4/K；制备所述光学功能膜的基底的膨胀系数为10^-6-10^-4/K。

7.一种光学功能膜的制备方法，其特征在于，

提供基底；

在所述基底上层叠形成多个单元薄膜，其中，每个所述单元薄膜包括由含氟化物材料制备的介质层，所述含氟化物材料包括主材料和掺杂材料，多个所述介质层的累积厚度大于4μm。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述主材料为氟化镁，所述掺杂材料包括氟化钙、氟化钡或氟化铝中的一种或多种；所述含氟化物材料中，所述主材料的质量分数为80％-100％；所述含氟化物材料的状态为烧结非晶体状态。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在所述基底上层叠形成多个单元薄膜，包括：

在所述基底上通过沉积的方式层叠形成多个单元薄膜，每个所述单元薄膜包括依次通过沉积而形成的第一脱膜层、第一吸收层、第一介质层、反射层、第二介质层以及第二吸收层。

10.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述基底的膨胀系数为10^-6-10^-4/K；所述单元薄膜的膨胀系数为10^-6-10^-4/K。

11.如权利要求7所述的方法，其特征在于，进行所述沉积前，采用离子源对所述基板进行活化处理，所述离子源的能量为100-300eV。

12.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述基底为不锈钢、玻璃、PET或PVC。

13.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法还包括，通过去除所述膜层单元中的第一脱膜层，得到所述光学功能膜产品。