[发明专利]釉面砖的柔光釉料及釉面制备方法在审
申请号: | 201711295044.1 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN108033682A | 公开(公告)日: | 2018-05-15 |
发明(设计)人: | 王彦庆;杨春;宋子春;黄中华;李文胜;杨晖;檀瑞超 | 申请(专利权)人: | 惠达卫浴股份有限公司 |
主分类号: | C03C8/20 | 分类号: | C03C8/20 |
代理公司: | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人: | 李桂芳 |
地址: | 063307 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: |
本发明公开了一种釉面砖的柔光釉料及釉面制备方法,其干料的化学成分及质量百分含量为:SiO |
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搜索关键词: | 釉面砖 柔光 釉料 釉面 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种釉面砖的柔光釉料,其特征在于,其干料的化学成分及质量百分含量为:SiO2 48~53%、Al2 O3 11~15%、CaO 6~8%、MgO 0.5~1.5%、K2 O 2~5%、Na2 O 2~5%、B2 O3 0.2~1%、BaO 5~8%、ZnO 10~13%、ZrO2 2~3%、Fe2 O3 ≤0.2%、TiO2 ≤0.1%,余量为杂质。
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