[发明专利]釉面砖的柔光釉料及釉面制备方法在审
申请号: | 201711295044.1 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN108033682A | 公开(公告)日: | 2018-05-15 |
发明(设计)人: | 王彦庆;杨春;宋子春;黄中华;李文胜;杨晖;檀瑞超 | 申请(专利权)人: | 惠达卫浴股份有限公司 |
主分类号: | C03C8/20 | 分类号: | C03C8/20 |
代理公司: | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人: | 李桂芳 |
地址: | 063307 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 釉面砖 柔光 釉料 釉面 制备 方法 | ||
本发明公开了一种釉面砖的柔光釉料及釉面制备方法,其干料的化学成分及质量百分含量为:SiO
技术领域
本发明涉及一种陶瓷釉面及制备方法,尤其是一种釉面砖的柔光釉料及釉面制备方法。
背景技术
随着现在物质文化水平的提高及环境卫生的普及,人们对居住生活环境的要求也越来越高,釉面砖作为居住环境装饰的一部分,人们更希望釉面砖表面更平整细腻光滑,触感好,容易清洁,表面光泽度低,不容易因光线对眼睛造成伤害,因此,研究表面平整细腻光滑且光泽度低的柔光釉是人们提高生活质量的必然要求。
现有的普通哑光釉要么表面粗糙光泽度低,要么釉面光滑光泽度高,二者不得兼一。现在市场上也有新研发的柔光釉,但本人研制的与他们的工艺不同,效果也不一样,他们在原普通哑光釉面的基础上,通过添加柔抛光设备,将釉面柔抛,但这种柔抛虽然光泽度低,但针孔多,且增加了成产制作工序,大大增加了生产成本,且不是最理想的柔光釉面效果。也有在高亮釉面上喷低光泽墨水的柔光釉,这种工艺虽操作简单,但是它的光泽度也有30~70之间,光泽也太强。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种光泽度高的釉面砖的柔光釉料;本发明还提供了一种釉面砖的釉面制备方法。
为解决上述技术问题,本发明所采取的技术方案是:其干料的化学成分及质量百分含量为:SiO
本发明釉料所述干料的原料采用高岭土、硅酸锆、氧化铝、烧滑石、钠长石、氧化锌和熔块。
本发明方法采用上述的釉料;所述干料加水调制成釉浆,施釉在砖的表面,烧结后即可得到所述的釉面。
本发明方法所述釉浆325目的筛余为0.1~0.4g/100ml,流速为50毫升流速计25~35秒,比重为1.85~1.90g/ml。
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