[发明专利]釉面砖的柔光釉料及釉面制备方法在审
| 申请号： | 201711295044.1 | 申请日： | 2017-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN108033682A | 公开（公告）日： | 2018-05-15 |
| 发明（设计）人： | 王彦庆;杨春;宋子春;黄中华;李文胜;杨晖;檀瑞超 | 申请（专利权）人： | 惠达卫浴股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/20 | 分类号： | C03C8/20 |
| 代理公司： | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人： | 李桂芳 |
| 地址： | 063307 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 釉面砖 柔光 釉料 釉面 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种釉面砖的柔光釉料，其特征在于，其干料的化学成分及质量百分含量为：SiO
2.根据权利要求1所述的釉面砖的柔光釉料，其特征在于：所述干料的原料为高岭土、硅酸锆、氧化铝、烧滑石、钠长石、氧化锌和熔块。
3.一种釉面砖的釉面制备方法，采用权利要求1或2所述的釉料，其特征在于：所述干料加水调制成釉浆，施釉在砖的表面，烧结后即可得到所述的釉面。
4.根据权利要求3所述的釉面砖的釉面制备方法，其特征在于：所述釉浆325目的筛余为0.1～0.4g/100ml，流速为50毫升流速计25～35秒，比重为1.85～1.90g/ml。
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