[发明专利]光栅的制造方法

摘要

本申请实施例所述提供的光栅的制造方法，通过提供具有基板和基板表面设置有第一压印层、间隔层和第二压印层的预制板，采用压印模板压印所述预制板的第二压印层形成图案化结构，采用多次蚀刻的方式，形成具有图案化结构的第一压印层，通过沉积一沉积材料在第一压印层之间形成第一沉积条，最后除去第一压印层，从而得到大深宽比的光栅。

主权项

一种光栅的制造方法，包括：提供一压印模板，所述压印模板的表面具有若干压印条，所述若干压印条之间具有若干间隙；提供一预制板，所述预制板具有一基板和依次设置于基板的表面的一第一压印层、一间隔层和一第二压印层，所述第一压印层的厚度大于所述压印条的厚度；将所述压印模板压印于所述第二压印层形成一图案化结构，所述若干压印条对应的预制板的区域标记为一第一区域，所述若干间隙对应的预制板的区域标记为一第二区域；依次除去位于第一区域的第二压印层、间隔层和第一压印层，暴露位于第一区域的基板的表面；沉积一沉积材料以在所述第一区域的基板的表面形成若干第一沉积条，每一所述第一沉积条的厚度均小于所述第一压印层的厚度，大于所述压印条的厚度；以及除去所述第一压印层，暴露位于所述第二区域的基板的表面，形成包括基板和第一沉积条的光栅。